下文介紹荊門市專利申請(qǐng)代理材料撰寫，2023年辦理繳費(fèi)明細(xì)，荊門市個(gè)人專利申請(qǐng)或者企業(yè)、高校等專利申請(qǐng)代理有需要隨時(shí)溝通合作。

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專利申請(qǐng)有三種類型，發(fā)明專利和實(shí)用新型專利，還有外觀設(shè)計(jì)專利。這三種專利不管是哪一種專利申請(qǐng)，都需要必備資料申請(qǐng)之前的提交步驟，專利申請(qǐng)的步驟有種，被集中表現(xiàn)的還是尋找專利代理協(xié)議，簡(jiǎn)單的說就是尋找專利代理機(jī)構(gòu)進(jìn)行委托申請(qǐng)專利。但是專利代理機(jī)構(gòu)并不能幫助委托人把所有需要準(zhǔn)備的專利申請(qǐng)資料都準(zhǔn)備好吧，所以申請(qǐng)專利需要哪些重要的文件資料，各位委托人準(zhǔn)備好了嗎？

首先是與專利有關(guān)的文件和材料。與申請(qǐng)項(xiàng)目相近或是相似的在先專利文件、文獻(xiàn)、期刊和圖紙等等，委托申請(qǐng)中國(guó)的發(fā)明專利時(shí)應(yīng)該事先進(jìn)行專利檢索，否則很容易被駁回。

其次是書面技術(shù)資料。申請(qǐng)項(xiàng)目所屬的技術(shù)領(lǐng)域及應(yīng)用到范圍，以及現(xiàn)有技術(shù)中實(shí)現(xiàn)與申請(qǐng)項(xiàng)目相同或是相似效果的技術(shù)措施、技術(shù)手段，方法或是方式。所申請(qǐng)的項(xiàng)目的發(fā)明目的，需要解決那些技術(shù)問題；用文字以及附圖詳細(xì)描述實(shí)現(xiàn)所申請(qǐng)項(xiàng)目發(fā)明目的的技術(shù)措施、技術(shù)特征；所申請(qǐng)項(xiàng)目的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)和結(jié)果，或是實(shí)驗(yàn)中所產(chǎn)生的現(xiàn)象；還要結(jié)合具體的實(shí)例和實(shí)驗(yàn)結(jié)論，客觀的說明發(fā)明的優(yōu)缺點(diǎn)；發(fā)明人認(rèn)為所申請(qǐng)的項(xiàng)目和現(xiàn)有技術(shù)在技術(shù)特征上的不同之處，發(fā)明人認(rèn)為應(yīng)當(dāng)屬于技術(shù)秘密的內(nèi)容。

然后是進(jìn)行這些資料的變現(xiàn)，簡(jiǎn)單的說就是如何撰寫這些專利申請(qǐng)書。只要進(jìn)行申請(qǐng)專利的人都會(huì)知道，權(quán)利要求書是分為獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求兩種。只是這些專利申請(qǐng)書都是有代理申請(qǐng)專利的機(jī)構(gòu)為專利申請(qǐng)人進(jìn)行編寫的，對(duì)申請(qǐng)專利的人來說，專利申請(qǐng)書所需要浪費(fèi)的時(shí)間和精力是非常大的，才會(huì)有專利代理機(jī)構(gòu)為了減少申請(qǐng)者的勞累，采取代理撰寫專利申請(qǐng)的服務(wù)。

獨(dú)立權(quán)利主要是表現(xiàn)發(fā)明專利和實(shí)用新型專利的主要技術(shù)內(nèi)容，此專利形式是獨(dú)立存在的。其技術(shù)特征的集合是該專利的保護(hù)范圍，獨(dú)立權(quán)利的要求中不能寫入任何非必要的技術(shù)特征，還需要注意的是權(quán)利要求不要寫得太廣泛。

從屬權(quán)利要求是引用獨(dú)立權(quán)利要求或幾項(xiàng)權(quán)利要求的全部技術(shù)特征，又含有若干的新技術(shù)特征的權(quán)利要求，從屬權(quán)里要求必須依從于獨(dú)立權(quán)利的要求或者在從獨(dú)立權(quán)利要求或者在前的從屬權(quán)利要求。每一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求可以有若干個(gè)從屬權(quán)要求。

獨(dú)立權(quán)利要求分兩部分撰寫:

一是前序部分：寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦鸵蟊Ｗo(hù)的主題名稱和該項(xiàng)發(fā)明或?qū)嵱眯滦团c現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征。

二是特征部分：寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛥^(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)特征，這是權(quán)利要求的核心內(nèi)容，這部分應(yīng)緊接前序部分，用“其特征是……”或者類似用語與上文聯(lián)接。前序部分和特征部分共同限定發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷谋Ｗo(hù)范圍。

從屬權(quán)利要求分兩部分撰寫：

一是引用部分：寫明被引用的權(quán)利要求的編號(hào)及發(fā)明或?qū)嵱眯滦椭黝}名稱。

二是限定部分：寫明發(fā)明或?qū)嵱眯滦透郊拥募夹g(shù)特征，它是獨(dú)立權(quán)利要求的補(bǔ)充，以及對(duì)引用部分的技術(shù)特征作進(jìn)一步的限定。也應(yīng)當(dāng)以“其特征是……”連接上文。通常，從屬權(quán)利要求書應(yīng)盡可能從多方面角度來補(bǔ)充、完善該專利的技術(shù)特征。

權(quán)利要求書撰寫中常見的錯(cuò)誤

純功能性的權(quán)利要求，這是初寫者常出現(xiàn)的錯(cuò)誤。通常情況下，產(chǎn)品必須用結(jié)構(gòu)型的技術(shù)特征來撰寫權(quán)利要求，方法必須用步驟或條件式權(quán)利要求，不能采用功能或混合式，這種寫法容易超出說明書范圍，擴(kuò)大了保護(hù)范圍。

總地來說，撰寫專利申請(qǐng)文件主要包括如下幾個(gè)步驟：理解發(fā)明創(chuàng)造、挖掘技術(shù)方案、撰寫權(quán)利要求書、撰寫說明書以及完善申請(qǐng)文件的整體結(jié)構(gòu)。在本文中，將針對(duì)專利申請(qǐng)文件的撰寫質(zhì)量比較重要的幾個(gè)方面進(jìn)行說明。

（一）檢索的重要性

當(dāng)前國(guó)內(nèi)的專利代理界，往往注重與發(fā)明人的技術(shù)內(nèi)容溝通而忽視檢索工作。筆者認(rèn)為，檢索工作在整個(gè)撰寫過程中具有舉足輕重的作用。專利申請(qǐng)檔案中包含了豐富的技術(shù)信息，在啟動(dòng)撰寫之前基于可訪問的數(shù)據(jù)庫進(jìn)行初步檢索工作，能夠合理地借鑒前人的智慧，有效地提升申請(qǐng)文件的質(zhì)量。特別地，檢索具有如下重要作用：

（1）進(jìn)行明顯新穎性的盡職調(diào)查，防止給申請(qǐng)人帶來不必要的損失。

（2）合理地相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)劃界，防止“多余指定”。

（3）學(xué)習(xí)權(quán)利要求的“法言法語”，取其精華，提升撰寫技巧。

（4）豐富申請(qǐng)文件的信息含量，規(guī)范技術(shù)術(shù)語的使用，合理地借鑒附圖的畫法，提高申請(qǐng)文件的質(zhì)量。

（二）獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)記載并且僅記載解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征

在撰寫?yīng)毩?quán)利要求時(shí)，需要將發(fā)明基本概念下的完整技術(shù)方案用盡量簡(jiǎn)潔嚴(yán)謹(jǐn)?shù)恼Z言表述清楚。獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)記載解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征，但應(yīng)當(dāng)避免引入解決技術(shù)問題的非必要技術(shù)特征。缺乏必要技術(shù)特征將導(dǎo)致申請(qǐng)文件不符合《專利法實(shí)施細(xì)則》第20條第2款的規(guī)定，非必要技術(shù)特征的存在則會(huì)縮小權(quán)利要求的保護(hù)范圍。因此，在寫完獨(dú)立權(quán)利要求之后，需要逐一判斷其中的每個(gè)特征是否是解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征，如果是，則保留，如果不是，則刪除，最后還要整體判斷所有保留特征的組合是否確實(shí)能夠解決發(fā)明想要解決的技術(shù)問題。下面通過一個(gè)具體案例來說明如何實(shí)現(xiàn)獨(dú)立權(quán)利要求僅記載解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征。

（三）從屬權(quán)利要求的撰寫要領(lǐng)

從屬權(quán)利要求的重要任務(wù)之一就是用合理的中位概念把獨(dú)立權(quán)利要求中涉及的寬泛的上位概念與具體的實(shí)施例聯(lián)系起來。合理安排從屬權(quán)利要求限定的保護(hù)范圍，需要從兩個(gè)方面考慮：一是技術(shù)特征的概括，從上位到具體，逐步進(jìn)行；而是從屬權(quán)利要求的引用關(guān)系，從上一個(gè)層級(jí)到下一個(gè)層級(jí)，逐級(jí)引用。

具體地，考慮到專利申請(qǐng)實(shí)質(zhì)審查程序以及可能的后續(xù)專利權(quán)無效宣告程序，為了增加修改余地，各層級(jí)的從屬權(quán)利要求的保護(hù)范圍應(yīng)該逐級(jí)縮小，技術(shù)特征應(yīng)該由上位到下位、由一般到特殊，逐步、依次展開。同時(shí)，將權(quán)利要求設(shè)置多個(gè)層級(jí)，下級(jí)權(quán)利要求引用上級(jí)權(quán)利要求，同級(jí)權(quán)利要求還可以設(shè)置多個(gè)并列的權(quán)利要求。最后，在最低級(jí)的從屬權(quán)利要求中，才涉及具體的附加技術(shù)特征。

（四）說明書公開充分

《專利法》第26條第3款規(guī)定：說明書應(yīng)當(dāng)對(duì)發(fā)明或者實(shí)用新型作出清楚、完整的說明，以所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為準(zhǔn)。這就是常說的“說明書公開充分”。

“說明書公開不充分”是撰寫過程中需要特別注意的問題，例如說明書中對(duì)發(fā)明技術(shù)內(nèi)容的描述含糊不清、未給出解決技術(shù)問題達(dá)到技術(shù)效果的技術(shù)手段、說明書中給出的技術(shù)手段含糊不清或者不能解決發(fā)明要解決的技術(shù)問題、引證方式導(dǎo)致公開不充分、反映發(fā)明關(guān)鍵技術(shù)內(nèi)容的說明書附圖不清楚不完整這幾種情況都會(huì)導(dǎo)致“說明書公開不充分”的缺陷。

眾所周知，在中國(guó)實(shí)踐中，審查員對(duì)“修改超范圍”的判定非常嚴(yán)格，一旦申請(qǐng)文件被指出“說明書公開不充分”，多數(shù)情況下針對(duì)該缺陷的修改都會(huì)導(dǎo)致“修改超范圍”，從而不被允許，因此在撰寫過程中要盡量避免“說明書公開不充分”。

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